Il programma di prodotti della Franco Corradi sas contiene un’ampia gamma di target per lo sputtering di ossidi ottimizzati per i requisiti speciali dei processi di sputtering.
I nostri target per lo sputtering di ossido offrono una migliore resa, stabilità del processo e maggiore libertà di progettazione per l’ingegnere del rivestimento ottico.
Molti target di ossido sputtering richiedono l’incollaggio
| Nome | Formula | Purezze |
|---|---|---|
| Ossido di alluminio | Al2O3 | 2N-4N |
| Ossido di zinco e alluminio | AZO | 3N |
| Ossido di antimonio | Sb2O3 | 3N |
| Antimonio: biossido di stagno | ATO | 3N5 |
| Titanato di bario | BaTiO3 | 2N6-4N |
| Ossido di bismuto | Bi2O3 | 3N |
| Ossido di cerio | CeO2 | 2N-3N5 TREO: 2N min |
| Ossido di rame | CuO | 3N |
| Ossido di cromo | Cr2O3 | 3N |
| Ossido di disprosio | Dy2O3 | 4N-5N TREO: 2N5-3N5 |
| Ossido di erbio | Er2O3 | 4N-5N TREO: 2N5-3N5 |
| Ossido di europio | Eu2O3 | 2N-3N5 TREO: 2N-3N |
| Ossido di gadolinio | Gd2O3 | 3N-4N5 TREO: 2N min |
| Ossido di zinco e gallio | GZO | 3N |
| Ossido di afnio | HfO2 | 2N-4N |
| Ossido di olmio | Ho2O3 | 3N-4N5 TREO: 2N min |
| Ossido di indio | In2O3 | 4N |
| Ossido di indio-stagno | ITO | 4N-5N |
| Ossido di indio e zinco | IZO | 4N-5N |
| Ossido di ferro | Fe2O3 | 3N |
| Ossido di ferro | Fe3O4 | 3N |
| Alluminato di lantanio | LaAlO3 | 3N |
| Titanato di piombo | PbTiO3 | 3N |
| Zirconato di piombo | PbZrO3 | 4N |
| Titanato di zirconato di piombo | PZT | 3N |
| Ossido di lutezio | Lu2O3 | 2N-3N TREO: 2N min |
| Ossido di magnesio | MgO | 4N |
| Ossido di molibdeno | MoO3 | 2N8-3N |
| Ossido di neodimio | Nd2O3 | 2N-3N TREO: 2N min |
| Ossido di nichel | NiO | 3N |
| Pentossido di niobio | Nb2O5 | 2N-5N |
| Ossido di praseodimio | Pr6O11 | 2N-3N TREO: 2N min |
| Ossido di samario | Sm2O3 | 2N-3N TREO: 2N min |
| Ossido di scandio | Sc2O3 | 4N-5N TREO: 2N5-3N5 |
| Biossido di silicio | SiO2 | 2N-4N |
| Monossido di silicio | SiO | 3N-4N |
| Titanato di stronzio | SrTiO3 | 3N |
| Pentossido di tantalio | Ta2O5 | 3N5-4N |
| Ossido di terbio | Tb4O7 | 2N5-5N TREO: 2Nmin |
| Ossido di tulio | Tm2O3 | 2N5-5N TREO: 2Nmin |
| Ossido di titanio | TiO | 3N |
| Ossido di titanio | TiO2 | 2N-4N |
| Ossido di titanio | Ti2O3 | 3N5 |
| Ossido di titanio | Ti3O5 | 2N5-4N |
| Ossido di tungsteno | WO3 | 3N |
| Ossido di vanadio | V2O5 | 3N |
| Ossido di ittrio | Y2O3 | 2N-5N TREO: 2N-3N5 |
| Ossido di itterbio | Yb2O3 | 2N-4N TREO: 2N |
| Ossido di zinco | ZnO | 3N |
| Ossido di zirconio | ZrO2 | 3N-4N |
| Ossido di zirconio e titanio | ZrO2 + TiO2 | 4N |
| Ossido di silicio + di zirconio | ZrO2 + SiO2 | 4N |
| Zirconia stabilizzata con ittrio | YSZ | 4N |
Sputtering Targets: Metalli puri – Ossidi – Composti e leghe – Boruri – Carburi – Fluoruri – Nitruri – Seleniuri – Siliciuri – Solfuri – Tellururi – Target Bonding
