Sputtering Targets e materiali per evaporazione.

Formati

  1. •  Discoidale - Planarmagnetron
  2. •  Rettangolare - Planarmagnetron
  3. •  Delta - Planarmagnetron
  4. •  Anulare
  5. •  Custom
  6. •  Granuli
  7. •  'Starter Charges'
  8. •  Barre - Filo (solo per i Metalli)

Metalli

Aluminium Chromium Lead Platinum Tantalum
Antimony Cobalt Lithium Potassium Tellurium
Barium Gallium Magnesium Rhenium Tin
Beryllium Germanium Manganese Rhodium Titanium
Bismuth Gold Molybdenum Rubidium Tungsten
Boron Hafnium Niobium Ruthenium Vanadium
Cadmium Indium Nickel Selenium Zinc
Calcium Iridium Osmium Silicon Zirkonium
Carbon Iron Palladium Strontium


Terre Rare

Cerium Gadolinium Neodymium Terbium  
Dysprosium Holmium Praseodymium Thulium  
Erbium Lutetium Samarium Ytterbium
Europium Lanthanum Scandium Yttrium


Leghe

Al/B Au/Pt Cr/SiO 2 Cermet Ir/Mn Si/Al
Al/Cu Au/Sn Cu/Al Ni/Cr Si/Cr
Al/Cu/Si Au/Zn Cu/Cr Ni/Fe Ta/Ti
Al/Cr Bi/Sb Cu/Ga Ni/Ti Ti/Al
Al/Li Bi/Sb/Se Cu/Ni Ni/V Ti/W
Al/Mg Bi/Sb/Se/Te Cu/Sn Ni/Zr Ti/Zr
Al/Si Bi/Sb/Te Fe/Al/Si Os/Ru W/Ti
Al/Ti Bi/Se Fe/Cr Pb/Se Zn/Al
Au/Sb Bi/Te Fe/Mn Pb/Te Zr/Y
Au/Ag Cd/Te Fe/Ru/Ga/Si Pb/Se/Te
Au/B So/Cr Fe/Si Pd/Pt
Au/Be Co/Fe Fe/Si/B/C Pt/Ru
Au/Ge Co/Nb/Zr Ge/Si Pt/Ag
Au/Ir Co/Ni Ge/Te Sb/In
Au/Pd Co/Ta/Zr In/Sn Sb/In/Sn


Ossidi

Al 2 O 3 CuO PbZrO 3 Supercond. Y 2 O 3
Sb 2 O 3 HfO 2 unstab. LiNbO 3 SrO ZnO
BaTiO 3 HfO 2 /CaO MgO SrTiO 3 ZnO dop.
Bi 2 O 3 HfO 2 /Y 2 O 3 MoO 3 SrZrO 3 ZrO 2 unstab.
Bi 2 TiO 5 In 2 O 3 Nb 2 O 3 Ta 2 O 5 ZrO 2 /CaO
Bi 4 Ti 3 O 12 ITO Nb 2 O 5 ThO 2 ZrO 2 /Y 2 O 3
BiTiO 3 LaAlO 3 RE 2 O 3 SnO 2
CeO 2 La 2 O 3 SiO 2 TiO 2
CrO 3 PbTiO 3 SiO WO 3


Boruri

CrB 2 Mo 2 B 6 TiB 2 VB 2
HfB 2 NbB 2 Wb ZrB 2
LaB 6 TaB 2 W 2 B


Carburi

B 4 C Mo 2 C TaC WC 6 %Co ZrC
Cr 3 C 2 NbC TiC WC 12 %Co
HfC SiC WC VC


Fluoruri

AlF 3 CeF 3 LiF RE/NaF YF 3
BaF 2 LaF 3 MgF 2 Na 3 AlF 6
CaF 2 PbF 2 KF ThF 4  


Nitruri

AlN HfN Si 3 N 4 TiN ZrN
BN NbN TaN VN


Siliciuri

CrSi 2 MoSi 2 TaSi 2 Ti 5 Si 3 V 3 Si
Cr 3 Si NbSi 2 Ta 5 Si 3 WSi 2 ZrSi 2
HfSi 2 PtSi TiSi 2 VSi 2


Solfuri, Seleniuri, Tellururi

As 2 S 3 PbS NbSe 2 TaTe 2 ZnS
CdSe PbTe Nb-S WSe 2 ZnTe
CdSe MoSe 2 NbTe 2 WsS 2
CdTe MoS 2 TaSe 2 WTe 2
PbSe MoTe 2 TaS 2 ZnSe

 


TARGET BONDING :

Su richiestaè possibile ordinare 'Sputtering Targets' saldati a speciali supporti metallici (backing plates).
La tecnologia di fissaggio del Target a piastre di supporto assicura una migliore resa del prodotto in termini di conducibiltà termica e permette il riutilizzo delle piastre una volta che il Target siè esaurito.

PURezza

Per soddisfare la diversità di impiego sia in ambito industriale che nella Ricercaè possibile scegliere tra purezze di diverso grado a partire dal 99,5% fino arrivare al 99,9995% .
La purezza indicataè una accurata rappresentazione del prodoto e fornisce la misura della contaminazione di altre impurità..

ANALisi tipiche

Nella garanzia di qualità del materiale fornitoè compresa l'analisi spettrografica.
Tutti i materiali sono comunque analizzati a priori con diverse metodologie: Raggi - X, spettrografia ad emissione di massa, analisi di conducibilità.

Quotazioni

Si prega di richiedere quotazioni specificando gli esatti parametri che definiscono lo Sputtering target :
  • Composizione Chimica
  • Forma Geometrica
  • Dimensioni
  • Purezza
  • Quantità